一般財団法人環境イノベーション情報機構
『TFT・酸化物TFTの基礎と応用および信頼性向上』
【募集期間】| 2010.05.15～2010.05.30
詳細は下記ＵＲＬからもご覧いただけます▼
http://ec.techzone.jp/products/detail.php?product_id=600
★電子ペーパー、液晶ディスプレイなどでの応用に不可欠!
★安定性のある開発手法を身につけ、次世代ディスプレイの製品化を急げ!
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【講 師】お問い合わせ頂くとご紹介します
【対 象】
高分子成形・印刷・ラミネート・二次加工現場、工務などに関係する方
【会 場】
(株) 日本テクノセンター研修室 【東京・新宿区】
【日 時】2010年 6月 1日 (火) 10:30～17:30
【定 員】30名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。
【聴講料】
1名につき 47,250円
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【プログラム】
■講師の言葉
酸化物TFTの動作原理と電気性能に関して、基礎から応用まで広く解説する。特に、材料、プロセス、デバイス構造と電気性能や信頼性について、解説する。また、スパッタ法やALD(原子層堆積法)法など、プロセスの違いにも着目する。また、最も重要な信頼性に関して、評価手法、劣化メカニズムや信頼性向上対策を詳しく解説する。非晶質シリコンや多結晶シリコンのTFTと比較を行いながら、その違いと類似性について議論する。さらに、酸化物TFTの今後の展開についても紹介する。
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Ⅰ.TFTの基礎
1.TFTの歴史
2.TFTの動作理論
3.TFTの評価技術
Ⅱ. SI系TFTの製造技術
1.薄膜形成技術
2.トランジスタ製造技術
3.信頼性向上技術
Ⅲ. 酸化物材料の基礎
1.酸化物材料の歴史
2.酸化物材料の電気伝導
3.薄膜形成技術
Ⅳ.酸化物TFTとその応用
1.酸化物TFT作製プロセス
2.酸化物TFTのデバイス構造
3.酸化物TFTの性能
Ⅴ.信頼性向上対策
1.酸化物TFTの信頼性評価技術
2.酸化物TFTの劣化メカニズム
3.酸化物TFTの信頼性向上対策
4.Si系TFTとの比較
Ⅵ.酸化物半導体の展望
1.酸化物TFTの今後
2.新応用技術
【登録日】2010.05.15