一般財団法人環境イノベーション情報機構
『PVD・CVDによる成膜技術とトラブル対策』
【募集期間】| 2010.05.27〜2010.06.06
http://ec.techzone.jp/products/detail.php?product_id=613
★成膜技術熟練者へなるためのセミナー
★推奨となる成膜条件からの素早い試作と、数十の成膜法ノウハウを修得し、高付加価値製品つくりに活かそう!
★ 無料の会員登録を行えばポイントサービス（2000〜5000円分割引）が利用できるセミナー
▲その他の 6月セミナー
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会 場 (株)日本テクノセンター研修室 【東京・新宿区】
日 時 2010 年6月4日(金)10:30〜17:30
定 員 30名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。
聴講料 1名につき47,250円
※ 同一法人より2名以上でのお申し込みの場合、1名につき42,000円
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■講師の言葉
多くの成膜技術の中でも、PVDおよびCVDは生成可能な膜種が多く応用分野も広いことから、自社製品用の内製加工から受託加工まで行われています。
PVD・CVDデータベースでは、アニメーションによる成膜法や評価法の原理やポイントや、基板温度や成膜室圧力などの加工条件パラメータと膜特性の相関に関する加工事例、光沢不良や密着不良などへのトラブル対策など豊富な事例が満載です。このほか、シミュレーション、自社の技能継承ツール、デジタル化手法を最大限に活用して、PVD、CVDに関するコーティングに関する一通りの進展や技術知識情報を一気に習得できることを目指し、初心者から熟練者への近道を狙います。特に、素早い試作とトラブル対策に力を発揮することを念頭に講義を行います。6時間という限られた時間の中で、数十の成膜法と評価方法を修得いただけます。
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１.コーティング法の紹介
・原理と特徴について
２. 膜特性評価法の紹介
・原理と特徴について
３.PVD・CVDデータベースの紹介と活用法
1.トラブル(欠陥)対策に関する事例データベース
2.推奨の成膜、加工条件
3.PVD-CVDに関する計算プログラム集
a.成膜装置内基板セット枚数計算
b.有機金属蒸気圧計算
c.光学薄膜用光学特性計算
d.屈折計算
e.消衰係数計算
f.内部透過率計算
g.大気中の透明誘電体薄膜屈折率計算
h.真空中中の透明誘電体薄膜屈折率計算
４.データ事例で見る膜特性と成膜パラメータの相関
-構造、機械、光学、電気、磁気、各種膜特性-
1.データ事例で見る機械特性と成膜条件の相関
2.データ事例で見る構造特性と成膜条件の相関
3.データ事例で見る光学特性と成膜条件の相関
4.データ事例で見る電気・磁気特性と成膜条件の相関
５.各種シミュレーションの紹介
・光学薄膜、基板セット枚数など
６.PVD・CVD加工テンプレートの紹介
・品質管理に活用できる
７.熟練の見える化法の紹介
・階層分析法、ベイズ推論など
８.これからのPVD・CVDコーティング
1.高速成膜
2.低温成膜
3.次世代電池
4.半導体
5.電池
6.医療応用
【登録日】2010.05.27