一般財団法人環境イノベーション情報機構
『インクジェット成膜技術基礎講座』
【募集期間】| 2010.05.27〜2010.06.06
http://ec.techzone.jp/products/detail.php?product_id=618
★低コストで大量生産でき、多用途展開が可能なインクジェット製膜技術。
★来るべき本格的普及に向け、基礎から先端までを学んで、電子デバイス、集積回路製造に活かそう!
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会 場 (株)日本テクノセンター研修室 【東京・新宿区】
日 時 2010 年6月8日 (火) 10:30〜17:30
定 員 30名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。
聴講料 1名につき47,250円
※ 同一法人より2名以上でのお申し込みの場合、1名につき42,000円
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■講師の言葉
もともとプリンターとして考案されたインクジェット法は、最近ではプリンターにとどまらず、他の分野における薄膜作製の一つの手法として、大きな注目を浴びるようになってきました。
本講義では、インクジェット法が半導体関連の電子デバイスに応用されることを軸として、バックグラウンドを知ることを目的としています。
具体的な内容としては、まずインクジェットプリンターが世の中に出てきた経緯を説明し、その構造と関連技術を概観します。
次に半導体デバイスに用いられる基本的な薄膜関連技術の中でも、最も重要な集積回路製造技術について紹介し、発光デバイスや太陽電池の半導体素子構造を解説したのち、最近大きな注目を浴びている有機物を利用した電子材料とそのデバイスについて解説します。
さらに電子デバイスの作製に用いられる薄膜作製技術についてその原理や特徴を解説し、続いて有機材料の薄膜作製技術について紹介します。
最後にこれらのまとめとして、インクジェット法が電子デバイス作製に応用する現状、問題点、展望について述べます。
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１. インクジェットプリンターの概要
1.プリンターの歴史
2.インクジェットプリンターの方式
3.インクジェットプリンターのインク
4.インクジェットプリンターの用紙
２.半導体デバイスの基礎
1.集積回路の構造
2.エピタキシャル技術(結晶成長技術)
3.フォトリソグラフィ技術(パターンニング技術)
4.発光デバイスと太陽電池の構造
5.アモルファス半導体
6.有機半導体の台頭
7.有機ELの構造
３.薄膜作製技術
1.真空蒸着法
2.スパッタリング法(DC、RF等)
3.MBE法
4.CVD法
5.スピンコート法
6 バーコート法
４. インクジェット法の薄膜作製への応用
1.インクジェット法の薄膜作製の現状
2.インクジェット法の薄膜作製の問題点
3.インクジェット法の将来展望
【登録日】2010.05.27